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J-GLOBAL ID：201103055392542801

ケイ酸塩無機高分子で被覆された酸化マンガン複合体及びその製造方法

Inventor： 大橋 文彦 ,  三木 健 ,  多井 豊
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 須藤 政彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010116788
Publication number (International publication number)：2011241132
Application date： May. 20, 2010
Publication date： Dec. 01, 2011
Summary：

【課題】ケイ酸塩で被覆された酸化マンガン複合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】酸化マンガンからなる表面を持つ基材の表面に、無機ケイ酸塩高分子が被覆された無機ケイ酸塩-酸化マンガン複合体を製造する方法であって、(1)ケイ素化合物水溶液と、アルミニウム化合物あるいは遷移金属化合物水溶液を混合し、前駆体懸濁液を調製する、(2)上記工程で副生成した塩を除去する、(3)上記前駆体懸濁液に基材を入れ、水熱反応を行う、(4)上記(1)〜(3)により、表面に無機ケイ酸塩高分子を被覆した酸化マンガン複合体を合成する、ことを特徴とする無機ケイ酸塩-酸化マンガン複合体の製造方法。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

酸化マンガンからなる表面を持つ基材の表面に、ケイ酸塩無機高分子が被覆された無機ケイ酸塩-酸化マンガン複合体及び製造する方法であって、 (1)ケイ素化合物水溶液と、アルミニウム化合物あるいは遷移金属化合物水溶液を混合し、前駆体懸濁液を調製する、 (2)上記工程で副生成した塩を除去する、 (3)上記前駆体懸濁液に基材を入れ、水熱反応を行う、 (4)上記(1)〜(3)により、表面にケイ酸塩無機高分子を被覆した酸化マンガン複合体を合成する、 ことを特徴とするケイ酸塩無機高分子-酸化マンガン複合体の製造方法。

IPC (4)：

C01G 45/02 ,  C01B 33/26 ,  H01M 4/50 ,  H01M 4/36

FI (4)：

C01G45/02 ,  C01B33/26 ,  H01M4/50 101 ,  H01M4/36 C

F-Term (44)：

4G048AA02 ,  4G048AB04 ,  4G048AC06 ,  4G048AD06 ,  4G073BA32 ,  4G073BA57 ,  4G073BA63 ,  4G073BD03 ,  4G073BD15 ,  4G073BD18 ,  4G073CB08 ,  4G073FA01 ,  4G073FB01 ,  4G073FB02 ,  4G073FB19 ,  4G073FB25 ,  4G073FC03 ,  4G073FC22 ,  4G073FC23 ,  4G073FC24 ,  4G073FC25 ,  4G073FC27 ,  4G073FD01 ,  4G073FD02 ,  4G073GA01 ,  4G073GA03 ,  4G073UA01 ,  4G073UB60 ,  5H050AA07 ,  5H050BA17 ,  5H050CA05 ,  5H050DA02 ,  5H050FA17 ,  5H050FA18 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050HA02 ,  5H050HA07 ,  5H050HA10 ,  5H050HA14 ,  5H050HA20