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J-GLOBAL ID：201103059129709470

蛍光レジスト組成物および、その用途

Inventor： 大嶽 知之 ,  中川 勝 ,  川島 政彦 ,  高岡 利明 ,  久保 祥一
Applicant, Patent owner： 日油株式会社 ,  国立大学法人東北大学 ,  旭化成イーマテリアルズ株式会社
Agent (2)： 酒井 一 ,  蔵合 正博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009200307
Publication number (International publication number)：2011051153
Application date： Aug. 31, 2009
Publication date： Mar. 17, 2011
Summary：

【課題】熱ナノインプリント成型前の初期膜厚、さらには熱ナノインプリント成型物の残膜測定や欠陥検査に適した、熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物、並びに該組成物を利用した熱ナノインプリント用基板及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物は、蛍光物質(A)、熱可塑性高分子(B)および、前記(A)成分と(B)成分を共に溶解する溶剤(C)を含み、蛍光物質(A)の最大励起波長が350〜600nmかつ最大蛍光波長が400〜700nmであり、蛍光物質(A)の融点が200°C以上であることを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

蛍光物質(A)、熱可塑性高分子(B)および、前記(A)成分と(B)成分を共に溶解する溶剤(C)を含むナノインプリント用蛍光レジスト組成物であって、 蛍光物質(A)の最大励起波長が350〜600nmかつ最大蛍光波長が400〜700nmであり、蛍光物質(A)の融点が200°C以上であることを特徴とする熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物。

IPC (2)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027

FI (3)：

B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502R

F-Term (15)：

4F209AA36 ,  4F209AA43 ,  4F209AA44 ,  4F209AD03 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28