多孔質酸化チタン薄膜とその製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (11)：社本一夫 , 小野新次郎 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 桜井周矩 , 神田藤博 , 田中英夫 , 細川伸哉 , 深澤憲広 , 平山晃二
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2002132502
Publication number (International publication number)：2003321222
Patent number：4104899
Application date： May. 08, 2002
Publication date： Nov. 11, 2003
Claim (excerpt)：

【請求項1】空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有し、かつ、3.18eVよりも大きいバンドギャップエネルギーを有し、量子サイズ効果を示すほど微小な酸化チタン微結晶集合体から構成されることを特徴とする多孔質TiO2薄膜。

IPC (1)：

C01G 23/04 ( 200 6.01)

FI (1)：

C01G 23/04 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

結晶性酸化チタン単分子膜の作製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-295963 Applicant：日本原子力研究所
酸化チタン膜形成用塗布剤、酸化チタン膜形成方法及び光触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-144543 Applicant：関西ペイント株式会社
膜厚の制御された無機超薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-353446 Applicant：科学技術振興事業団, 三井化学株式会社

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Cited by examiner (1)

結晶性酸化チタン単分子膜の作製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-295963 Applicant：日本原子力研究所

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

Cited by examiner (2)

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