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J-GLOBAL ID:201103066300269030
多孔質酸化チタン薄膜とその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (11):
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 桜井 周矩
, 神田 藤博
, 田中 英夫
, 細川 伸哉
, 深澤 憲広
, 平山 晃二
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2002132502
Publication number (International publication number):2003321222
Patent number:4104899
Application date: May. 08, 2002
Publication date: Nov. 11, 2003
Claim (excerpt):
【請求項1】 空隙率が50%以上であり、大きな比表面積を有し、かつ、3.18eVよりも大きいバンドギャップエネルギーを有し、量子サイズ効果を示すほど微小な酸化チタン微結晶集合体から構成されることを特徴とする多孔質TiO2薄膜。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
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結晶性酸化チタン単分子膜の作製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-295963
Applicant:日本原子力研究所
Article cited by the Patent:
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