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J-GLOBAL ID:201103066887186469

ナノメートルスケールの自己組織化膜上の支持メンブラン

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): ポレール特許業務法人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010277909
Publication number (International publication number):2011126000
Application date: Dec. 14, 2010
Publication date: Jun. 30, 2011
Summary:
【課題】ナノメートルスケールの自己組織化膜上に支持メンブランを提供する。【解決手段】一実施形態では、構造は、基板から上方に延出する複数のナノ構造と、複数のナノ構造の上端にわたって延在する多孔質メンブランとを含む。方法は、基板上にブロックコポリマー層を形成するステップと、ブロックコポリマー層の自己組織化を誘発するステップと、ブロックコポリマー層からブロックポリマーを選択的に分解させるステップと、ブロックコポリマー層の上に多孔質メンブランを形成するステップと、ブロックコポリマー層の上に多孔質メンブランを形成後、基板から上方に延出する複数のナノ構造を画成するためにブロックコポリマー層の一部分を除去するステップとを含む。【選択図】図2
Claim (excerpt):
基板から上方に延出する複数のナノ構造と、 前記複数のナノ構造の上端にわたって延在する多孔質メンブランとを含む支持メンブラン。
IPC (4):
B82B 1/00 ,  G11B 5/84 ,  B82B 3/00 ,  G11B 5/85
FI (4):
B82B1/00 ,  G11B5/84 Z ,  B82B3/00 ,  G11B5/85 Z
F-Term (6):
5D112AA05 ,  5D112AA16 ,  5D112AA17 ,  5D112AA24 ,  5D112GA00 ,  5D112GA27
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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