Pat
J-GLOBAL ID：201103067804218450
単分散複合型エマルションの製造装置
Inventor：
,
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
小山 有
, 矢野 裕也
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2001266001
Publication number (International publication number)：2003071261
Patent number：4182195
Application date： Sep. 03, 2001
Publication date： Mar. 11, 2003
Claim (excerpt)：
【請求項1】エマルションを構成する分散相自体が別のエマルションとなっている単分散複合型エマルションを製造する装置であって、この装置は分散相が供給される第1スペースと、この第1スペースに隣接するとともに連続相が供給される第2スペースと、この第2スペースに隣接するとともに連続相として前記第1スペースで供給される分散相と同一または別の連続相が供給される第3スペースとを備え、これら第1スペース、第2スペース及び第3スペースは枠部と境界壁からなる基板をプレートに重ねることで扁平に画成され、また第1スペースと第2スペースは第1マイクロチャネルでつながり、前記第2スペースと第3スペースは第2マイクロチャネルでつながり、これら第1マイクロチャネル及び第2マイクロチャネルは前記境界壁に形成され、前記第2マイクロチャネルの幅は前記第1マイクロチャネルの幅よりも大きくされ、更に前記基板のプレートと反対側面には、ラバープレートを介してジョイントブロックが設けられ、このジョイントブロックには前記第1スペースに分散相を供給する分散相の供給路、前記第2スペースに連続相を供給する連続相の供給路、前記第3スペースに連続相を供給する連続相の供給路および前記第3スペースから複合型エマルションを回収する回収路が形成されていることを特徴とする単分散複合型エマルションの製造装置。
IPC (10)：
B01F 3/08 ( 200 6.01)
, A61K 8/11 ( 200 6.01)
, A61K 9/113 ( 200 6.01)
, A61P 5/26 ( 200 6.01)
, A61P 35/00 ( 200 6.01)
, B01F 5/08 ( 200 6.01)
, A23D 9/02 ( 200 6.01)
, A23G 9/04 ( 200 6.01)
, A61K 31/337 ( 200 6.01)
, A61K 31/568 ( 200 6.01)
B01F 3/08 A
, A61K 8/11
, A61K 9/113
, A61P 5/26
, A61P 35/00
, B01F 5/08
, A23D 9/02
, A23G 9/04
, A61K 31/337
, A61K 31/568
