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J-GLOBAL ID：201103069749037591

テルル酸化物を含む超薄膜及びその作製方法

Inventor： 中村 徹 ,  保田 諭 ,  宮前 孝行 ,  松本 睦良 ,  近藤 寛 ,  太田 俊明
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2002200926
Publication number (International publication number)：2004043221
Patent number：4061403
Application date： Jul. 10, 2002
Publication date： Feb. 12, 2004
Claim (excerpt)：

【請求項1】 固体表面に有機ジテルリド化合物を用いて作製されたテルル酸化物を含む、膜厚が0.5〜10nmの超薄膜であって、該有機ジテルリド化合物が有する有機基が得られた酸化膜に残存していることを特徴とする超薄膜。

IPC (2)：

C01B 19/00 ( 200 6.01) ,  H01L 21/316 ( 200 6.01)

FI (2)：

C01B 19/00 E ,  H01L 21/316 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭50-046317
  
• 特開平2-165990