Pat

J-GLOBAL ID：201103072010354654

高分子分析装置および高分子分析方法

Inventor： 高橋 勝利 ,  福井 一彦
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (4)： 大野 聖二 ,  森田 耕司 ,  北野 健 ,  鈴木 守
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2004120804
Publication number (International publication number)：2005300480
Patent number：4251557
Application date： Apr. 15, 2004
Publication date： Oct. 27, 2005
Claim (excerpt)：

【請求項1】イオン化された試料を保持するイオントラップ工程と、 前記イオントラップ工程にて保持したイオン化された前記試料に波長可変の赤外線レーザーを照射し、前記試料を切断する赤外線レーザー照射工程と、 前記赤外線レーザー照射工程にて切断された前記試料の質量分析を行なう質量分析工程と、を含み、 前記赤外線レーザーが、パルスレーザーであり、前記赤外線レーザーの波長を変化させることにより、前記波長に対応する特定の箇所で前記試料を切断することを特徴とする、高分子分析方法。

IPC (1)：

G01N 27/62 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01N 27/62 V

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• “Infrared Multiphoton Dissociation of Large Multiply Charged Ions for Biomolecule Sequencing”
• “Charge-State Selective Fragmentation Analysis for Protonated Peptides in IRMPD and CID”
• “Use of Infrared Multiphoton Photodissociation with SWIFT for Electrospray Ionization and Laser Des
• “Ultrasensitive spectroscopy of ionic reactive intermediates in the gas phase performed with the fi