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J-GLOBAL ID：201103072253719430

基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置

Inventor： 冨 田 寛 ,  飛 沢 健
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (5)： 吉武 賢次 ,  勝沼 宏仁 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009276493
Publication number (International publication number)：2011119514
Application date： Dec. 04, 2009
Publication date： Jun. 16, 2011
Summary：

【課題】基板の表面に形成された半導体デバイス等へのダメージを抑制し、基板の表面から、異物を除去することができる、基板の洗浄方法及び基板の洗浄装置を提供する。【解決手段】被処理基板上に、第1の洗浄液による第1の洗浄液層と、第1の洗浄液層上に形成され第1の洗浄液よりも比重の小さい第2の洗浄液による第2の洗浄液層とを形成し、第2の洗浄液層に超音波を印加して被処理基板を洗浄する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

被処理基板上に、第1の洗浄液による第1の洗浄液層と、前記第1の洗浄液層上に形成され前記第1の洗浄液よりも比重の小さい第2の洗浄液による第2の洗浄液層とを形成し、 前記第2の洗浄液層に超音波を印加して前記被処理基板を洗浄する、 ことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (1)：

H01L 21/304

FI (3)：

H01L21/304 642E ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648F

F-Term (20)：

5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157BB02 ,  5F157BB06 ,  5F157BB73 ,  5F157BB79 ,  5F157BC01 ,  5F157CB13 ,  5F157CF10 ,  5F157CF66 ,  5F157CF72 ,  5F157CF92 ,  5F157CF99 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB47 ,  5F157DC85