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J-GLOBAL ID：201103072651677810

アセタール化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

Inventor： 長谷川 幸士 ,  畠山 潤 ,  永田 岳志 ,  橘 誠一郎 ,  金生 剛
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011058739
Publication number (International publication number)：2011219742
Application date： Mar. 17, 2011
Publication date： Nov. 04, 2011
Summary：

【解決手段】一般式(1)で示されるアセタール化合物。【効果】アセタール化合物から得られる繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜10は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるアセタール化合物。

IPC (6)：

C08F 20/28 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027 ,  C07C 43/303

FI (6)：

C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/11 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C43/303

F-Term (75)：

2H125AF17P ,  2H125AF29P ,  2H125AF34P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH05 ,  2H125AH12 ,  2H125AH13 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ24Y ,  2H125AJ26X ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ74Y ,  2H125AJ83X ,  2H125AJ89X ,  2H125AJ92Y ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN86P ,  2H125AN88P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125DA01 ,  2H125DA03 ,  2H125FA03 ,  4H006AA01 ,  4H006GP01 ,  4H006GP02 ,  4J100AJ01R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA56R ,  4J100BC03R ,  4J100BC07R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC43R ,  4J100BC49R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC84R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38