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J-GLOBAL ID：201103074570360687

複数の分布を同時に生成する決定論的方式によるサンプリングシミュレーション装置

Inventor： 福田 育夫 ,  中村 春木
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (2)： 大菅 義之 ,  久木元 彰
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005036901
Publication number (International publication number)：2006221578
Patent number：4654385
Application date： Feb. 14, 2005
Publication date： Aug. 24, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】 決定論的微分方程式を数値積分した結果を用いてサンプリングを行い、物質の物理的、化学的性質を計算するサンプリングシミュレーション装置において、 Boltzmann-Gibbsエネルギー分布によって算出される温度パラメータの基準値に基づき決定された、複数の温度パラメータごとにそれぞれTsallis分布を生成する複数分布生成手段と、 生成された前記複数のTsallis分布を表示する分布表示手段と、 Tを十分に重なりを持つと判断されたTsallis分布に対応する温度パラメータ、Uを物理系のポテンシャルエネルギー、Kを物理系の運動エネルギー、Dを微分演算子、ρを十分に重なりを持つと判断されたTsallis分布密度、xを物理系の座標、pを物理系の運動量、nを物理系の原子あるいは分子の数、αを十分に重なりを持つと判断されたTsallis分布の区別を表す添え字として、 としたとき、 で与えられる微分方程式を数値積分する数値積分手段と、 該数値積分の結果得られた軌跡に沿ってサンプリングするサンプリング手段と、 該サンプリングによって得られたサンプリング点からなる分布を用いて、シミュレーション対象の物理系の物理量を演算する物理量演算手段と、 を備え、 前記複数分布生成手段によって生成された複数のTsallis分布が十分な重なりを持つ組み合わせは、前記分布表示手段に表示された前記複数のTsallis分布に基づきユーザによって判断されることを特徴とするサンプリングシミュレーション装置。

IPC (2)：

G06F 19/00 ( 201 1.01) ,  G06F 17/50 ( 200 6.01)

FI (2)：

G06F 19/00 110 ,  G06F 17/50 638

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• シミュレーション装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-226950   Applicant：富士通株式会社