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J-GLOBAL ID:201103076022049500
ナノ秒パルス電界を用いたアポトーシス誘導方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011047162
Publication number (International publication number):2011240115
Application date: Mar. 04, 2011
Publication date: Dec. 01, 2011
Summary:
【課題】ナノ秒パルス電界の繰り返し周波数を制御することでアポトーシスなどの細胞死を引き起こすことを可能とする。【解決の手段】組織中の標的細胞に対して、ナノ秒パルス電界を印加して、アポトーシスなどの細胞死を誘導する方法であって、前記ナノ秒パルス電界は、0.5~250KV/cmで、1~300nsのパルス幅で、繰り返し周波数は0.01pps超過0.5pps未満であることを特徴とするナノ秒パルス電界を用いたアポトーシスなど細胞死誘導方法、繰り返し周波数は50pps以上であることを特徴とするナノ秒パルス電界を用いたアポトーシスなど細胞死誘導方法、前記ナノ秒パルス電界複数回を1回としたクラスターとして印加して、クラスターの繰り返し周波数が0.01回/秒超過0.5回/秒未満であることを特徴とするナノ秒パルス電界印加シークエンスを用いたアポトーシスなど細胞死誘導方法を特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
組織中の標的細胞に対して、ナノ秒パルス電界を印加して、
アポトーシスなどの細胞死を誘導する方法であって、
前記ナノ秒パルス電界は、0.5~250KV/cmで、1~300nsのパルス幅で、
繰り返し周波数は0.01pps超過0.5pps未満であることを特徴とする
ナノ秒パルス電界を用いたアポトーシスなど細胞死誘導方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (5):
4C053JJ02
, 4C053JJ03
, 4C053JJ04
, 4C053JJ40
, 4C053LL20
Patent cited by the Patent:
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