Pat
J-GLOBAL ID:201103077035063974
親水化剤、その製造方法および親水性機能製品
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
深井 敏和
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009242133
Publication number (International publication number):2011092797
Application date: Oct. 21, 2009
Publication date: May. 12, 2011
Summary:
【課題】可視光照射下で高い親水性を示す親水性膜を簡便に形成しうる親水化剤を提供する。 【解決手段】光触媒体粒子の表面に貴金属が担持された貴金属担持光触媒体粒子が分散媒中に分散した貴金属担持光触媒体粒子分散液からなる親水化剤であって、前記光触媒体粒子100質量部に対して、前記貴金属を0.005〜1質量部含有し、前記光触媒体粒子の固形分濃度を15質量%としたときに、粘度が200cP以下である貴金属担持光触媒体粒子分散液からなる親水化剤であり、この親水化剤を用いて基材(製品)の表面に親水性層を形成する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
光触媒体粒子の表面に貴金属が担持された貴金属担持光触媒体粒子が分散媒中に分散した貴金属担持光触媒体粒子分散液からなる親水化剤であって、
前記貴金属担持光触媒体粒子分散液は、前記光触媒体粒子100質量部に対して、前記貴金属を0.005質量部〜1質量部含有し、前記光触媒体粒子の固形分濃度を15質量%としたときに、粘度が200cP以下であることを特徴とする親水化剤。
IPC (3):
B01J 35/02
, B01J 37/34
, C09K 3/00
FI (3):
B01J35/02 J
, B01J37/34
, C09K3/00 R
F-Term (40):
4G169AA02
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA13B
, 4G169BA14B
, 4G169BA29B
, 4G169BA48A
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BC31A
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC60A
, 4G169BC60B
, 4G169BC69A
, 4G169BC75B
, 4G169DA05
, 4G169DA06
, 4G169EA02X
, 4G169EA08
, 4G169FA01
, 4G169FB06
, 4G169FB14
, 4G169FB18
, 4G169FB23
, 4G169FB57
, 4G169FB58
, 4G169FC08
, 4G169FC09
, 4G169HA02
, 4G169HA03
, 4G169HB06
, 4G169HC01
, 4G169HC02
, 4G169HC29
, 4G169HD10
, 4G169HE06
, 4G169HE08
, 4G169HE12
, 4G169HF09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
-
複合材表面に付着した親水性基を有する固体汚染物及び脂肪酸系油の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-316278
Applicant:東陶機器株式会社
-
貴金属担持光触媒体粒子分散液の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-195520
Applicant:住友化学株式会社
-
光触媒膜組成物及びこれを用いた光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-252707
Applicant:シャープ株式会社
-
可視光応答性光触媒と環境汚染物質の光分解法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-233222
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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光触媒、光触媒形成用塗布液、及び光触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-292630
Applicant:東海旅客鉄道株式会社
-
酸化タングステン光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-077964
Applicant:国立大学法人北海道大学, 住友化学株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-050958
Applicant:石原産業株式会社, 株式会社フミン
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光触媒組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-153562
Applicant:旭化成株式会社
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Application number:特願2006-193564
Applicant:HOYA株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-227441
Applicant:有限会社エヌ・ティー・エス, 株式会社菱和
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Application number:特願平8-049861
Applicant:住友化学工業株式会社
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パラジウムを担持した固定光触媒、めっき廃液中の有機物の処理方法および処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-200012
Applicant:東京都
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-258045
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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