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J-GLOBAL ID：201103080641225212

シリコン酸化膜の製造方法

Inventor： 村瀬 仁俊 ,  下 俊久 ,  野村 信福 ,  豊田 洋通 ,  山下 浩 ,  倉本 誠
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田自動織機 ,  国立大学法人愛媛大学
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005099536
Publication number (International publication number)：2006274426
Patent number：4665111
Application date： Mar. 30, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Claim (excerpt)：

【請求項1】 シリコーン化合物を含む液体中に生じ内部にプラズマが発生した気泡を基材の表面に接触させて、該基材の表面にシリコン酸化膜を成膜することを特徴とするシリコン酸化膜の製造方法。

IPC (4)：

C23C 26/00 ( 200 6.01) ,  C23C 16/40 ( 200 6.01) ,  C23C 16/509 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01)

FI (4)：

C23C 26/00 D ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/24