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J-GLOBAL ID：201103081035969962

露光装置および基板の傾き補正方法

Inventor： 中島 大輔
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (6)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009205240
Publication number (International publication number)：2011060790
Application date： Sep. 04, 2009
Publication date： Mar. 24, 2011
Summary：

【課題】フォーカス位置の計測結果に誤差が含まれる場合であっても適切な近似平面を再現性良く算出する。【解決手段】原版のパターン像を投影光学系を介して基板に投影して露光する露光装置であって、前記基板及び原版を相対的に移動可能に保持するステージと、前記基板の平面度情報を検出するフォーカス位置検出手段と、前記フォーカス位置検出手段により計測される基板の平面度情報を用いて、当該基板の平面度の誤差を最小化して近似平面を算出する算出手段と、算出された前記近似平面の傾きが所定の制約条件を超えている場合、前記所定の制約条件を満たすような近似平面にするための前記近似平面の傾き成分を演算する演算手段と、演算された前記近似平面の傾き成分に基づいて前記基板の傾きを補正するように前記ステージを制御する制御手段と、を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

原版のパターン像を投影光学系を介して基板に投影して露光する露光装置であって、 前記基板及び原版を相対的に移動可能に保持するステージと、 前記基板の平面度情報を検出するフォーカス位置検出手段と、 前記フォーカス位置検出手段により計測される基板の平面度情報を用いて、当該基板の平面度の誤差を最小化して近似平面を算出する算出手段と、 算出された前記近似平面の傾きが所定の制約条件を超えている場合、前記所定の制約条件を満たすような近似平面にするための前記近似平面の傾き成分を演算する演算手段と、 演算された前記近似平面の傾き成分に基づいて前記基板の傾きを補正するように前記ステージを制御する制御手段と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

FI (3)：

H01L21/30 526 ,  H01L21/30 516Z ,  G03F7/207 H

F-Term (4)：

5F046DA14 ,  5F046DB04 ,  5F146DA14 ,  5F146DB04