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J-GLOBAL ID：201103083089348443

液相レーザーアブレーション装置及び液相レーザーアブレーション方法

Inventor： 西 哲平 ,  東 博純
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009277407
Publication number (International publication number)：2011115750
Application date： Dec. 07, 2009
Publication date： Jun. 16, 2011
Summary：

【課題】ターゲット材料の種類によらず、液相中に粒子を連続的に安定して製造できる製造効率の十分に高度な液相レーザーアブレーション装置を提供する。【解決手段】レーザー光Lを発生させるためのレーザー発振器10と、レーザー光を導入するための窓13Aを備え且つ溶媒14を保持するための処理容器13と、処理容器内に配置されるターゲット15と、処理容器から溶媒を流出させるための流出管16と、処理容器に溶媒を流入させるための流入管17と、流出管及び流入管に溶媒を流通させるためのポンプ18と、流出管内の溶媒の流路と流入管内の溶媒の流路とポンプ内の溶媒の流路とからなる循環流路中に配置され且つ循環流路中に流通する溶媒の中からレーザーアブレーションにより形成された粒子を回収するための15〜1000nmの孔径を有するフィルター19とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

溶媒中に保持されているターゲットに対してレーザー光を照射して液相中でレーザーアブレーションを行うために用いる液相レーザーアブレーション装置であって、 レーザー光を発生させるためのレーザー発振器と、 前記レーザー光を導入するための窓を備え且つ前記溶媒を保持するための処理容器と、 前記処理容器内に配置されるターゲットと、 前記処理容器から前記溶媒を流出させるための流出管と、 前記処理容器に前記溶媒を流入させるための流入管と、 前記流出管及び前記流入管に溶媒を流通させるためのポンプと、 前記流出管内の溶媒の流路と前記流入管内の溶媒の流路と前記ポンプ内の溶媒の流路とからなる循環流路中に配置され且つ前記循環流路中に流通する前記溶媒の中から前記レーザーアブレーションにより形成された粒子を回収するための15〜1000nmの孔径を有するフィルターと、 を備えることを特徴とする液相レーザーアブレーション装置。

IPC (4)：

B01J 19/12 ,  B23K 26/36 ,  B23K 26/12 ,  B82B 3/00

FI (4)：

B01J19/12 H ,  B23K26/36 ,  B23K26/12 ,  B82B3/00

F-Term (9)：

4E068AH00 ,  4E068CJ07 ,  4G075AA27 ,  4G075BB05 ,  4G075BC10 ,  4G075CA36 ,  4G075DA02 ,  4G075EB34 ,  4G075FC02