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J-GLOBAL ID：201103083407445909
電子ビーム励起プラズマ成膜装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
西教 圭一郎
, 廣瀬 峰太郎
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003347450
Publication number (International publication number)：2004111980
Patent number：3689098
Application date： Oct. 06, 2003
Publication date： Apr. 08, 2004
Claim (excerpt)：
【請求項1】 電子ビームによって励起されるプラズマを利用して、試料上で化学的気相成長を行う電子ビーム励起プラズマ成膜装置において、 電子ビームを発生するための複数の電子ビーム発生手段を備え、 さらに各電子ビーム発生手段は、電子ビームを加速するための加速電極を備え、各加速電極から試料までの距離がそれぞれ異なるように配置されることを特徴とする電子ビーム励起プラズマ成膜装置。
IPC (5)：
C23C 16/48
, H01J 37/32
, H01L 21/205
, H01J 37/077
, H05H 1/24
C23C 16/48
, H01J 37/32
, H01L 21/205
, H01J 37/077
, H05H 1/24
