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J-GLOBAL ID:201103086804912334
グラフェンまたは薄膜グラファイトの製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010150005
Publication number (International publication number):2011032156
Application date: Jun. 30, 2010
Publication date: Feb. 17, 2011
Summary:
【課題】大面積で、電気伝導性・透明性等の品質に優れたグラフェンまたは薄膜グラファイトを簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】グラファイト結晶、またはグラファイト結晶から作製されたグラファイト層間化合物を、水および/または有機溶媒中で攪拌し、グラファイト結晶またはグラファイト層間化合物から、グラファイト層を剥離する工程を含む事を特徴とする。前記グラファイト結晶のX線回折によって測定された002回折線より算出された平均層面間隔が0.3354〜0.35nmの範囲にあることが好ましい。【選択図】なし
Claim (excerpt):
X線回折によって測定された002回折線より算出された平均層面間隔が0.3354〜0.35nmの範囲にあるグラファイト結晶を、水および/または有機溶媒中で攪拌し、前記グラファイト結晶の表面からグラファイト層を剥離する工程を含む事を特徴とするグラフェンの製造方法。
IPC (3):
C01B 31/04
, C08L 101/00
, C08K 3/04
FI (3):
C01B31/04 101Z
, C08L101/00
, C08K3/04
F-Term (40):
4G146AA02
, 4G146AA07
, 4G146AA15
, 4G146AB04
, 4G146AB07
, 4G146AC16A
, 4G146AC16B
, 4G146AC20A
, 4G146AC20B
, 4G146AD22
, 4G146AD28
, 4G146BA02
, 4G146BA15
, 4G146BA45
, 4G146BC04
, 4G146BC36B
, 4G146CA11
, 4G146CB09
, 4G146CB10
, 4G146CB17
, 4G146CB19
, 4G146CB35
, 4J002BB061
, 4J002BC031
, 4J002BD041
, 4J002BD101
, 4J002BE021
, 4J002BE061
, 4J002BF021
, 4J002BG041
, 4J002BQ001
, 4J002CD001
, 4J002CE001
, 4J002CF211
, 4J002CG001
, 4J002CL011
, 4J002CL031
, 4J002CM011
, 4J002DA026
, 4J002FD116
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-277307
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
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リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-073080
Applicant:キヤノン株式会社
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リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-112835
Applicant:シャープ株式会社
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Article cited by the Patent:
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