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J-GLOBAL ID：201103091839287568

ビーム記録方法及び装置

Inventor： 加園 修 ,  熊坂 治
Applicant, Patent owner： パイオニア株式会社
Agent (3)： 藤村 元彦 ,  永岡 重幸 ,  高野 信司
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2009294793
Publication number (International publication number)：2010135806
Patent number：4533457
Application date： Dec. 25, 2009
Publication date： Jun. 17, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】 基板を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することにより、少なくとも一部にスペースを含む潜像パターンが形成された基板を製造する製造方法であって、 前記露光ビームを偏向する偏向工程と、 前記露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、 前記潜像パターンのうち、連続的な1の露光パターンである長ピットを形成する場合には、前記長ピットのうち前記基板の回転方向の一部を形成し、前記長ピットの前記一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、前記長ピットの残部を形成することを特徴とする製造方法。

IPC (4)：

G11B 7/26 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H01J 37/305 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (4)：

G11B 7/26 501 ,  H01L 21/30 541 J ,  H01J 37/305 B ,  G03F 7/20 504

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 光ディスク及びマスタ-ディスク製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-097416   Applicant：エルジー電子株式会社
• ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-085429   Applicant：富士通株式会社
• 電子ビーム露光方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-121523   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭63-055935
  

Cited by examiner (4)

• 光ディスク及びマスタ-ディスク製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-097416   Applicant：エルジー電子株式会社
• ビーム照射方法及び装置並びに記録媒体作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-085429   Applicant：富士通株式会社
• 電子ビーム露光方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-121523   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭63-055935