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J-GLOBAL ID：201103092953739459

Pd系水素分離膜を製造する方法

Inventor： 藤本 芳正 ,  田中 幸男 ,  小林 一登 ,  菊地 英一 ,  小島 紀徳 ,  上宮 成之
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社 ,  社団法人日本化学工業協会
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2000354733
Publication number (International publication number)：2002153740
Patent number：3396470
Application date： Nov. 21, 2000
Publication date： May. 28, 2002
Claim (excerpt)：

【請求項1】 無電解メッキ法によりPd系水素分離膜を製造する方法であって、耐熱性多孔質支持体を、有機系脱脂剤で洗浄処理をした後、前記有機系脱脂剤をアルコールで置換して真空中で乾燥処理を行う工程、真空乾燥した前記支持体を、SnCl2溶液とPdCl2溶液との2液に交互に浸漬して活性化処理した後、純水によって支持体を十分に洗浄する工程、活性化浸漬処理を行った前記支持体を、ヒドラジン水溶液中で浸漬活性化処理を施す工程、及び前記浸漬処理を行った前記支持体を、無電解メッキ液に浸漬する工程、を含んでなることを特徴とするPd系水素分離膜を製造する方法。

IPC (4)：

B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 ,  C23C 18/31 ,  C23C 18/44

FI (4)：

B01D 71/02 500 ,  C23C 18/28 A ,  C23C 18/31 A ,  C23C 18/44