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J-GLOBAL ID：201103095633869477

アイソレータ

Inventor： 横井 康彦 ,  岩間 明文 ,  福井 慎二 ,  中尾 敦 ,  山本 宏 ,  大西 二朗 ,  砂山 裕信 ,  山本 寛純
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社 ,  澁谷工業株式会社
Agent (1)： 特許業務法人クシブチ国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010043551
Publication number (International publication number)：2011177091
Application date： Feb. 26, 2010
Publication date： Sep. 15, 2011
Summary：

【課題】アイソレータにおいて、塵埃の細胞等への混入を防止し、塵埃が細胞の操作等の培養作業に影響することを防止できるようにする。【解決手段】外部から作業者が手を入れて作業室16内で細胞の操作が可能な複数のグローブ19A、19B、19C、19Dを作業室16内に略横一列に備えたアイソレータ10において、作業室16内が、少なくとも細胞の操作エリア25と、補助器具を開封する補助作業エリア35とに区別され、操作エリア25には上方から下方に気体が供給され、下方に流れた気体を、グローブ19A、19Bの近傍で、操作エリア25側から補助作業エリア35側に向けて流す気流制御手段を備え、気流制御手段が、各エリアの作業板42に設けられて気体を排気する排気孔部45を備え、補助作業エリア側排気孔部45Bの総開口面積を、操作エリア側排気孔部45Aの総開口面積よりも大きく形成した。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

外部から作業者が手を入れて作業室内で細胞の操作が可能な複数のグローブを前記作業室内に略横一列に備えたアイソレータにおいて、 前記作業室内が、少なくとも細胞の操作エリアと、細胞の操作に使用する包装された補助器具を開封する補助作業エリアとに区別され、 少なくとも前記操作エリア内には上方から下方に気体が供給され、 前記下方に流れた気体を、前記グローブの近傍で、細胞の操作エリア側から補助作業エリア側に向けて流す気流制御手段を備え、 前記気流制御手段が、各エリアの下面に設けられて前記上方からの気体を排気する排気孔部を備え、前記補助作業エリア側の排気孔部の総開口面積を、前記操作エリア側の排気孔部の総開口面積よりも大きく形成したことを特徴とするアイソレータ。

IPC (1)：

C12M 1/00

FI (1)：

C12M1/00 K

F-Term (2)：

4B029AA19 ,  4B029BB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 安全キャビネット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-361366   Applicant：株式会社日立産機システム
• 安全キャビネット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-317398   Applicant：三洋電機株式会社