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J-GLOBAL ID：201103098475214238

ECRイオン発生装置

Inventor： 加藤 裕史 ,  浅地 豊久
Applicant, Patent owner： 富山県 ,  立山マシン株式会社
Agent (1)： 廣澤 勲
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2003301662
Publication number (International publication number)：2005072363
Patent number：4457202
Application date： Aug. 26, 2003
Publication date： Mar. 17, 2005
Claim (excerpt)：

【請求項1】 金属円筒状のチャンバと、このチャンバの側方に配置され上記チャンバ内に磁場を形成する磁石と、上記チャンバ内にマイクロ波を導くアンテナとを備え、上記チャンバを共振器としてそのチャンバ内に電子サイクロトロン共鳴によるプラズマを発生させイオン源とするECRイオン発生装置において、 上記チャンバ内で上記チャンバの中心軸方向両側に上記マイクロ波のTE01モードの管内波長のn/2(nは自然数)倍の間隔を隔てて、上記マイクロ波を遮蔽する遮蔽部材を設け、 上記チャンバ内のマイクロ波の電磁界モードのうち、上記チャンバ中心軸を中心とした円の円周方向に電界が形成されたTE01モードの電界強度の定在波について、上記チャンバ中心軸方向の分布の中で、電界強度が最大となる位置であって、且つ一方の遮蔽部材と他方の遮蔽部材との間に上記アンテナを設置し、 上記チャンバ内での上記磁石による外部磁界の磁力線の向きと上記チャンバ内の上記マイクロ波による上記TE01モードの電界の向きが直交する位置であって、上記チャンバ内の上記TE01モードでの電界強度の値が最大となる位置で、上記磁石による上記チャンバ内での外部磁界の強さがECR条件に合致するように上記磁石を設定したことを特徴とするECRイオン発生装置。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  C23C 16/511 ( 200 6.01)

FI (4)：

H01L 21/302 101 D ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 C ,  C23C 16/511