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J-GLOBAL ID:201110056984836461   Research Resource code:1000001981 Update date:Nov. 05, 2004

ICPエッチング装置システムRIE-200iP

ICPエッチング装置システムRIE-200iP
Owning Organization:
Contact: TAKANO Masaharu
Resource classification: Experience equipment, Facilities, etc
Research area  (1): Measurement engineering
Overview:
プラズマ放電形式に誘導結合方式(ICP)を採用しシリコンディープ・
ドライエッチングを行う。
User procedures and method:
詳細は、別途担当者まで問い合わせること

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