Rsrc
J-GLOBAL ID:201110095092771620   Research Resource code:1000001703 Update date:Nov. 30, 2002

Load Lock Type High Vacume Electron Beam Thin Filme Metal Deposition System

ロードロック式電子ビーム蒸着装置
Owning Organization:
Contact: Munecazu Tacano
Resource classification: Research resource, Research sample, Prototype, etc
Research area  (1): Electron/electric material engineering
Overview:
ロードロック式電子ビーム蒸着装置 主要目的:半導体デバイス作製工程のひとつである金属蒸着工程を行うための装置
User environment and conditions:
研究業務の遂行に支障のない事
User procedures and method:
詳細は,担当者まで問い合わせること

Return to Previous Page