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J-GLOBAL ID：201202102481272020   Reference number：12A1365385

モデルベース二次元光近接効果補正ツールの開発(2)-パターンマッチング方式によるコンタクトホール層高速補正

Author (9)： KOBAYASHI SACHIKO (東芝 LSI基盤技術ラボラトリー) ,  YAMAMOTO KAZUKO (東芝 LSI基盤技術ラボラトリー) ,  UNO TAIGA (東芝 LSI基盤技術ラボラトリー) ,  TANAKA SATOSHI (東芝セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技研) ,  KOTANI TOSHIYA (東芝セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技研) ,  INOUE SOICHI (東芝セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技研) ,  SUZUKI HIROAKI (東芝セミコンダクター社) ,  WATANABE SUSUMU (東芝セミコンダクター社) ,  HIGURASHI HITOSHI (東芝 LSI基盤技術ラボラトリー)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 47th  Issue： 2  Page： 687  Publication year： Mar. 28, 2000 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (7)： モデルベース ,  光近接効果補正 ,  ツール ,  開発 ,  パターンマッチング ,  コンタクトホール ,  層高