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J-GLOBAL ID：201202210337776690   Reference number：12A0340474

Wavelength-Controlled Etching of Silicon Nanocrystals

ケイ素ナノ結晶の波長をコントロールしたエッチング

Author (4)： NUNEZ Jose R. Rodriguez (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  KELLY Joel A. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  HENDERSON Eric J. (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  VEINOT Jonathan G. C. (Univ. Alberta, Alberta, CAN)
Material： Chemistry of Materials  (Chem Mater)
Volume： 24  Issue： 2  Page： 346-352  Publication year： Jan. 24, 2012 
JST Material Number： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nano crystal ,  *etching ,  *silicon ,  small angle X-ray scattering ,  hydrosilylation ,  photoluminescence ,  polydispersity ,  Hydrofluoric Acid ,  *nanocrystalline silicon
Semi thesaurus term： *silicon nanocrystal

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (1)： 1-Dodecene

Terms in the title (5)： ケイ素 ,  ナノ結晶 ,  波長 ,  コントロール ,  エッチング