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J-GLOBAL ID：201202222861275213   Reference number：12A1465002

明日の産業を支える新洗浄技術 最新の超音波洗浄技術

Author (1)： YASUI KYUICHI (産業技術総合研 先進製造プロセス研究部門)
Material： 産業洗浄  (Industrial Cleaning)
Issue： 10  Page： 8-13  Publication year： Sep. 30, 2012 
JST Material Number： L7969A  ISSN： 2188-8388  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *ultrasonic cleaning ,  cavitation ,  bubble ,  ultrasonic irradiation ,  *integrated circuit ,  *manufacturing ,  wafer ,  equipment ,  frequency(Hz) ,  unit
Semi thesaurus term： cavitation bubble ,  ultrasonic cavitation ,  *integrated circuit manufacture ,  Si wafer ,  microbubble generator ,  GHz

JST classification (2)： Film flows,liquid drops,bubbles,cavitation  (BC02070U) ,  General  (NC03161C)

Reference (25)：

• 1) 「半導体LSIのできるまで」編集委員会編著:よくわかる半導体LSIのできるまで(改訂第2版).日刊工業新聞社(2004)
• 2) 西久保靖彦:図解入門よくわかる最新半導体の基本と仕組み(第2版).秀和システム(2011)
• 3) AG Zijlstra: Acoustic Surface Cavitation. PhD thesis,University of Twente, Netherlands (2011)
• 4) 大見忠弘編著:ウェットサイエンスが拓くプロダクトイノベーション.サイペック(2001)
• 5) 垂井康夫編:世界をリードするイノベーター一電子・情報分野の日本人10人-.オーム社(2005)

Terms in the title (3)： 産業 ,  洗浄 ,  超音波洗浄