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J-GLOBAL ID：201202246887374011   Reference number：12A0641127

砥粒存在下でのシリコンのブロモ化反応における速度論的研究

Author (7)： TOMONO KAZUAKI (山口大 大学院) ,  OKAMURA YUKI (山口大 大学院) ,  FURUYA HIROTOSHI (山口大 大学院) ,  MIYAMOTO SEIJI (山口大 大学院) ,  SUMIMOTO MICHINORI (山口大 大学院) ,  KOMATSU RYUICHI (山口大 大学院) ,  NAKAYAMA MASAHARU (山口大 大学院)
Material： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
Volume： 92nd  Issue： 2  Page： 419  Publication year： Mar. 09, 2012 
JST Material Number： S0493A  ISSN： 0285-7626  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,  wafer ,  hydrogen bromide ,  *bromination ,  waste material utilization ,  *silicon carbide ,  *abrasive grain ,  *silicon bromide ,  chemical synthesis ,  Arrhenius equation ,  activation energy ,  *reaction rate

JST classification (2)： Other noncatalytic reactions  (CB06070U) ,  Salts  (CD01050V)

Terms in the title (5)： 砥粒 ,  シリコン ,  ブロモ化 ,  速度論 ,  研究