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J-GLOBAL ID：201202257629519147   Reference number：12A1436979

N₂運動エネルギー誘起Al(111)窒化膜の773K以下における熱変性

Author (10)： JINNO MUNEAKI (原子力機構) ,  JINNO MUNEAKI (兵庫県大 大学院) ,  TERAOKA YUDEN (原子力機構) ,  TERAOKA YUDEN (兵庫県大 大学院) ,  TAKAOKA TSUYOSHI (東北大 多元物質科研) ,  OKADA RYUTA (筑波大) ,  IWAI YUTARO (原子力機構) ,  IWAI YUTARO (兵庫県大 大学院) ,  YOSHIGOE AKITAKA (兵庫県大 大学院) ,  KOMEDA TADAHIRO (東北大 多元物質科研)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
Volume： 73rd  Page： ROMBUNNO.13A-C3-8  Publication year： Aug. 27, 2012 
JST Material Number： Y0055B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： nitrogen ,  kinetic energy ,  *aluminum nitride ,  *heat denaturation ,  *thin film ,  photoelectron spectrum
Semi thesaurus term： nitride membrane

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Irradiational changes of other materials  (BK16124V)

Terms in the title (6)： N2 ,  運動エネルギー ,  誘起 ,  Al ,  窒化膜 ,  熱変性