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J-GLOBAL ID：201202274489737906   Reference number：12A0121636

Deposition of novel nanocomposite films by a newly developed differential pumping co-sputtering system

新しい開発した微分ポンピング同時スパッタリングシステムによる新しいナノ複合体膜の蒸着

Author (5)： NOSE Masateru (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama, Takaoka 933-8588, JPN) ,  KURIMOTO Takeshi (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama, Takaoka 933-8588, JPN) ,  SAIKI Atsushi (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama, Takaoka 933-8588, JPN) ,  MATSUDA Kenji (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama, Takaoka 933-8588, JPN) ,  TERAYAMA Kiyoshi (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama, Takaoka 933-8588, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 30  Issue： 1  Page： 011502  Publication year： Jan. 2012 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Nanocomposites ,  substrate (plate) ,  *codeposition ,  molecular flow ,  Knudsen number ,  Partial Pressure ,  glow discharge ,  emission spectroscopy ,  *aluminum nitride ,  *silicon oxide ,  amorphous state ,  evaporated film ,  pollution ,  conductance ,  vacuum vessel ,  composite material ,  oxyecoia partial pressure

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： 開発 ,  微分 ,  ポンピング ,  同時スパッタリング ,  複合体膜 ,  蒸着