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J-GLOBAL ID：201202284569327763   Reference number：12A0184922

RAPID DEPOSITION OF POLY-SI THIN FILM ON GLASS SUBSTRATES FOR SOLAR APPLICATION

太陽光利用のためのガラス基板へのポリシリコン薄膜の高速蒸着

Author (7)： DING Peijun (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  SONG Guanghua (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  POPPE Steve (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  FU Jianming (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  XU Zheng (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  CHUNG Ben (Sierra Solar Power, Inc, California, USA) ,  YAN Lou (Sierra Solar Power, Inc, California, USA)
Material： Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference  (IEEE Photovoltaic Specialists Conference)
Volume： 34th Vol.1  Page： 373-376  Publication year： 2009 
JST Material Number： E0756A  ISSN： 0160-8371  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： sunlight ,  solar photovoltaic generation ,  substrate(plate) ,  electric apparatus and parts ,  polysilicon ,  thin film ,  *vapor deposition ,  *thin film growth ,  borosilicate
Semi thesaurus term： glass substrate ,  polysilicon thin film ,  *rapid deposition

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Terms in the title (4)： 太陽光 ,  ガラス基板 ,  シリコン薄膜 ,  蒸着