Art

J-GLOBAL ID：201202285272729028   Reference number：12A0602368

SiCレーザろう付けプロセス技術の開発

Author (3)： SUYAMA SHOKO (東芝) ,  TANAKA AKIRA (東芝) ,  KONO WATARU (東芝)
Material： 日本セラミックス協会年会講演予稿集
Volume： 2012  Page： 194  Publication year： Mar. 19, 2012 
JST Material Number： X0505A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon carbide ,  *brazing ,  brazing filler metal ,  alumina ,  yttrium oxide ,  bending strength ,  semiconductor laser ,  wetting (liquid) ,  silicon dioxide ,  *laser brazing ,  mechanical property ,  strength
Semi thesaurus term： silica

JST classification (1)： Manufacturing of ceramics and ceramic whiteware  (YC03020V)

Terms in the title (4)： SiC ,  レーザろう付け ,  プロセス ,  開発