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J-GLOBAL ID：201202298330918370   Reference number：12A1148539

Formation and stability of a two-dimensional nickel silicide on Ni(111): An Auger, LEED, STM, and high-resolution photoemission study

Ni(111)上の二次元ニッケルシリサイドの形成と安定性:Auger,LEED,STM,高分解能光電子研究

Author (6)： LALMI B. (Synchrotron SOLEIL, Saint-Aubin, FRA) ,  GIRARDEAUX C. (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  PORTAVOCE A. (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  OTTAVIANI C. (ISM, CNR, Roma, ITA) ,  AUFRAY B. (CINaM, CNRS, Marseille, FRA) ,  BERNARDINI J. (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA)
Material： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter)
Volume： 85  Issue： 24  Page： 245306.1-245306.6  Publication year： Jun. 2012 
JST Material Number： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicide ,  *nickel compound ,  photoelectron spectroscopy ,  Auger electron spectroscopy ,  low energy electron diffraction ,  scanning tunneling microscope ,  *stability
Semi thesaurus term： *nickel silicide ,  *formation

JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (8)： Ni ,  ニッケルシリサイド ,  安定性 ,  LEED ,  STM ,  高分解能 ,  光電子 ,  研究