Pat
J-GLOBAL ID:201203001151277125
塗布膜の形成方法、および塗布膜形成装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010134311
Publication number (International publication number):2011255359
Application date: Jun. 11, 2010
Publication date: Dec. 22, 2011
Summary:
【課題】 周縁部においても膜厚均一性の高い塗布膜の形成方法および塗布膜形成装置を提供すること。【解決手段】 塗布液膜の周縁部の上方を覆うようなカバーを設けて、塗布液膜の周縁部において局所的に溶媒蒸気が滞留する空間を作り、この空間の大きさを乾燥中に制御させることによって、塗布液膜周縁部での蒸発速度を調節し、塗布液膜内の濃度分布を均一にすることで周縁部の膜厚不均一を抑制する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
揮発性の溶媒を含む塗布溶液を基板に塗布して形成し、塗布した塗布液膜を乾燥させて塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、前記塗布液膜の乾燥中は、前記塗布液膜の周縁部の上方を覆い前記塗布液膜の中央部に開口部を形成するカバー部を配置することを特徴とする塗布膜形成方法。
IPC (5):
B05D 3/04
, B05D 3/12
, B05C 11/08
, H01L 21/027
, G03F 7/16
FI (5):
B05D3/04 Z
, B05D3/12 Z
, B05C11/08
, H01L21/30 564C
, G03F7/16 501
F-Term (24):
2H125EA12P
, 2H125EA22P
, 4D075BB24Y
, 4D075BB33Y
, 4D075BB56Y
, 4D075CA13
, 4D075CA48
, 4D075DA03
, 4D075DA06
, 4D075DB01
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DC21
, 4D075DC22
, 4D075EA05
, 4D075EA45
, 4D075EB11
, 4D075EB31
, 4F042AA06
, 4F042EB05
, 4F042EB29
, 5F046JA05
, 5F146JA05
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