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J-GLOBAL ID：201203007210763967

スパッタ源終端検出機構およびスパッタ装置

Inventor： 宮本 泰敬 ,  林 直人 ,  奥田 光伸
Applicant, Patent owner： 日本放送協会
Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011116907
Publication number (International publication number)：2012246509
Application date： May. 25, 2011
Publication date： Dec. 13, 2012
Summary：

【課題】簡素な構成として、既存のスパッタ装置に容易に搭載可能であって、スパッタ源であるターゲットをスパッタ装置に取り付けた状態で、孔の開く直前の限界まで使用することが可能となるスパッタ源終端検出機構を提供する。【解決手段】ターゲット終端検出器10は、スパッタ装置のターゲットホルダ25の表面に形成された溝25cに収納されて、その上に載置されているターゲットT1の裏面に光を照射する導光体11と、導光体11に接続した光源12とを備え、導光体11は、ターゲットT1におけるスパッタ装置により消費される部位の裏側に配置され、ターゲットT1が薄肉化して孔の開く直前になると、導光体11から発光した光がターゲットT1を透過して、表面側で検知されることを特徴とする。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

スパッタ装置の処理室に設置されているスパッタ源の裏面に光を照射する投光手段を備え、 前記投光手段は、前記スパッタ装置により消費される前記スパッタ源の部位における裏側に配置されていることを特徴とするスパッタ源終端検出機構。

IPC (1)：

C23C 14/34

FI (1)：

C23C14/34 U

F-Term (4)：

4K029DA03 ,  4K029DC21 ,  4K029DC37 ,  4K029DC39

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• マグネトロンスパッタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-161922   Applicant：関西日本電気株式会社
• 特開平3-180469
  

Cited by examiner (2)

• マグネトロンスパッタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-161922   Applicant：関西日本電気株式会社
• 特開平3-180469