有機半導体素子の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：金山聡 , 深町圭子 , 伊藤英生 , 藤枡裕実 , 後藤直樹 , 伊藤裕介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011080823
Publication number (International publication number)：2012216676
Application date： Mar. 31, 2011
Publication date： Nov. 08, 2012
Summary：

【課題】高い精度で効率良く有機半導体をパターニングすることができる有機半導体素子の製造方法を提供する。【解決手段】有機半導体層形成用溶液に対して撥液性がある撥液部2を有する基体1と、前記基体1上に形成されたソース電極3及びドレイン電極4と、前記基体1の撥液部2の一部上に形成された遮蔽層5とを有し、前記ソース電極3及び前記ドレイン電極4に金もしくは/及び白金、又は酸化還元電位が銀以下の金属が含まれている有機半導体素子用基板6上に紫外線又は含酸素プラズマを前記有機半導体素子用基板6に照射して、前記有機半導体層形成用溶液に対して親液性がある親液部7に変性する有機半導体素子用基板6の形成工程と、有機半導体層8の形成工程と、前記ソース電極3及び前記ドレイン電極4に酸化還元電位が銀以下の金属が含まれている場合は還元工程と、を有する有機半導体素子の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有機半導体材料を溶媒に含有させた有機半導体層形成用溶液に対して撥液性がある撥液部を有する基体と、前記基体上に形成されたソース電極及びドレイン電極と、前記基体の撥液部の一部上に形成された遮蔽層とを有し、前記ソース電極及び前記ドレイン電極に金又は/及び白金が含まれている有機半導体素子用基板上に、前記有機半導体素子用基板のソース電極及びドレイン電極が形成されている側から、紫外線又は含酸素プラズマを前記有機半導体素子用基板に照射して、前記基体の撥液部の一部を前記有機半導体層形成用溶液に対して親液性がある親液部に変性する有機半導体素子用基板の形成工程と、前記遮蔽層を前記有機半導体素子用基板の基体上から除去し、前記有機半導体素子用基板上に前記有機半導体層形成用溶液を塗布し、前記ソース電極及び前記ドレイン電極に接する前記有機半導体層を形成する有機半導体層の形成工程と、を有する有機半導体素子の製造方法。

IPC (3)：

H01L 29/786 , H01L 21/336 , H01L 51/05

FI (5)：

H01L29/78 627C , H01L29/78 618B , H01L29/78 616V , H01L29/78 626C , H01L29/28 100A

F-Term (33)：

5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110CC03 , 5F110CC05 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD03 , 5F110DD04 , 5F110DD05 , 5F110DD12 , 5F110DD25 , 5F110EE01 , 5F110EE02 , 5F110EE07 , 5F110EE43 , 5F110FF01 , 5F110FF27 , 5F110FF36 , 5F110GG05 , 5F110GG42 , 5F110GG57 , 5F110HK02 , 5F110HK04 , 5F110HK17 , 5F110HK32 , 5F110HK33 , 5F110HK34 , 5F110HK35 , 5F110HK41 , 5F110HK42 , 5F110NN71 , 5F110NN72 , 5F110QQ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

導電性パターン及びその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-337175 Applicant：ソニー株式会社
積層構造体、積層構造体を用いた電子素子、電子素子を用いた電子素子アレイ、積層構造体の製造方法および電子素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-079419 Applicant：株式会社リコー

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