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J-GLOBAL ID：201203024401292486

光干渉断層撮影装置

Inventor： 魚住 孝之 ,  西村 久美子
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (3)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  西 和哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011066212
Publication number (International publication number)：2012202761
Application date： Mar. 24, 2011
Publication date： Oct. 22, 2012
Summary：

【課題】簡単な手順によって短時間に被測定物体の概略の断層画像および局所の詳細な断層画像を選択的にとらえる。【解決手段】光源20が出射する光SLを参照光RL1と測定光MLとに分離する光束分離部と、測定光MLを被撮影物体spに導くとともに、被撮影物体spのXY面内で測定光MLの照射位置を変位させる光学スキャナ50と、第1対物光学系61Lと、第2対物光学系61Hと、第1対物光学系61Lおよび第2対物光学系61Hのいずれかを選択する切替制御部と、時間に応じて選択された対物光学系を、測定光MLを被撮影物体spの表面または内部に合焦させるために光学スキャナ50と被測定物体spとの間に配設する対物光学系切替部60と、戻り光BLと参照光RL2との合成光CLを得る光束合成部と、合成光CLに基づいて、被撮影物体spの断層画像を生成する検出信号取得部とを備えた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光を参照光と測定光とに分離する光束分離部と、 前記測定光を被撮影物体側に導くとともに、前記被撮影物体の深さ方向に直交する面内における前記測定光の照射位置を変位させる照射位置変更部と、 第1の対物光学系と、 前記第1の対物光学系が有する開口数よりも大きな開口数を有する第2の対物光学系と、 前記第1の対物光学系および前記第2の対物光学系のいずれかを対物光学系として選択する制御部と、 前記測定光を前記被撮影物体に照射可能に、前記制御部により選択された対物光学系を配設する対物光学系切替部と、 前記測定光が前記選択された対物光学系を通過して前記被撮影物体に照射されることによって得られる戻り光と前記参照光との干渉光を得る光束合成部と、 前記干渉光に基づいて、前記被撮影物体の前記深さ方向の断面を表す断層画像を生成する断層画像生成部と、 を備えることを特徴とする光干渉断層撮影装置。

IPC (1)：

G01N 21/17

FI (1)：

G01N21/17 630

F-Term (21)：

2G059BB14 ,  2G059DD12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059FF03 ,  2G059GG02 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ22 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM05 ,  2G059MM10 ,  4B029AA07 ,  4B029BB01 ,  4B029CC02 ,  4B029FA03