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J-GLOBAL ID:201203027841946762

ナノ中空物品用プロセス及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  蛯谷 厚志 ,  出野 知 ,  鈴木 康義
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2012506052
Publication number (International publication number):2012524154
Application date: Mar. 26, 2010
Publication date: Oct. 11, 2012
Summary:
ナノ中空物品、ナノ中空コーティング、及び低屈折率コーティングの製造プロセス及び装置が記載される。このプロセスは、溶媒中の重合性材料が第1の溶液を提供する工程と、重合性材料を少なくとも部分的に重合し、不溶性ポリマーマトリックス及び第2の溶液を含む組成物を形成する工程であって、この不溶性ポリマーマトリックスが第2の溶液で満たされる複数のナノ空隙を備える工程と、第2の溶液から溶媒の大部分を除去する工程と、を含む。このプロセス用装置も記載され、ウェブラインと、コーティング区域と、部分重合区域と、溶媒除去区域と、を含む。
Claim (excerpt):
ナノ中空物品の製造プロセスであって、 溶媒中に重合性材料を含む第1の溶液を提供する工程と、 前記重合性材料を少なくとも部分的に重合し、不溶性ポリマーマトリックスと、第2の溶液と、を含む組成物を形成する工程であって、前記不溶性ポリマーマトリックスが前記第2の溶液で満たされる複数のナノ空隙を備える工程と、 前記第2の溶液から溶媒の大部分を除去する工程と、を含む、プロセス。
IPC (5):
C08F 2/04 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/50 ,  C09D 7/12 ,  C09D 201/00
FI (5):
C08F2/04 ,  C08F2/44 A ,  C08F2/50 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00
F-Term (44):
4J011DA04 ,  4J011DB13 ,  4J011DB22 ,  4J011DB26 ,  4J011HB05 ,  4J011HB10 ,  4J011HB12 ,  4J011HB17 ,  4J011HB26 ,  4J011PA07 ,  4J011PA13 ,  4J011PA47 ,  4J011PC02 ,  4J011PC08 ,  4J011QA03 ,  4J011QA06 ,  4J011QA08 ,  4J011QA09 ,  4J011QA14 ,  4J011QA18 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA25 ,  4J011QB02 ,  4J011QB17 ,  4J011QB23 ,  4J011SA00 ,  4J011SA32 ,  4J011SA84 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J038FA071 ,  4J038FA251 ,  4J038FA281 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038KA03 ,  4J038KA06 ,  4J038KA15 ,  4J038MA07 ,  4J038NA19 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19 ,  4J038PB08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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