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J-GLOBAL ID：201203028151598571

トリブロモシランの製造方法

Inventor： 中山 雅晴 ,  友野 和哲
Applicant, Patent owner： 国立大学法人山口大学
Agent (6)： 廣田 雅紀 ,  小澤 誠次 ,  東海 裕作 ,  大▲高▼ とし子 ,  ▲高▼津 一也 ,  堀内 真
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011027034
Publication number (International publication number)：2012166965
Application date： Feb. 10, 2011
Publication date： Sep. 06, 2012
Summary：

【課題】多結晶シリコンの製造原料であるトリブロモシランを高い選択率及び/又は高い収率で得ることができる製造方法を提供すること。【解決手段】金属グレードシリコン及び臭化水素を380〜450°C、好ましくは380〜430°Cで反応させ、蒸留により分離回収するトリブロモシランの製造方法である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

シリコン及び臭化水素を380〜450°Cで反応させることを特徴とするトリブロモシランの製造方法。

IPC (1)：

C01B 33/107

FI (1)：

C01B33/107 Z

F-Term (10)：

4G072AA15 ,  4G072HH01 ,  4G072JJ04 ,  4G072JJ13 ,  4G072MM01 ,  4G072NN01 ,  4G072RR07 ,  4G072RR11 ,  4G072RR21 ,  4G072UU30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭63-129011
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭63-129011