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J-GLOBAL ID：201203031087155505

ナノインプリント用テンプレート及びパターン転写装置

Inventor： 三本木 晶子 ,  稲浪 良市 ,  笠 健太郎 ,  中嶋 由美 ,  鈴木 理人 ,  高桑 真歩 ,  古殿 瑶子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (18)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010208540
Publication number (International publication number)：2012064810
Application date： Sep. 16, 2010
Publication date： Mar. 29, 2012
Summary：

【課題】高精度な位置合わせを弊害なく実現する。【解決手段】実施形態に係わるナノインプリント用テンプレートは、同一面に転写パターン16a及びアライメントマークAM2を備え、アライメントマークAM2は、偏光子又は位相差フィルム17により構成される。そして、ナノインプリント技術による基板上へのパターン転写時に、偏光を用いることにより、又は、光の位相差を検出することにより、基板とナノインプリント用テンプレートとの位置合わせを行う。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

ナノインプリント技術による基板上へのパターン転写時に用いるナノインプリント用テンプレートにおいて、同一面に転写パターン及びアライメントマークを備え、前記アライメントマークは、偏光子により構成されることを特徴とするナノインプリント用テンプレート。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02

FI (4)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/30 507A ,  B29C33/42 ,  B29C59/02 B

F-Term (22)：

4F202AF01 ,  4F202AF16 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD23 ,  4F202CK43 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209AJ11 ,  4F209AP20 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046FA09 ,  5F046FB20 ,  5F146AA28 ,  5F146FA09 ,  5F146FB20