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J-GLOBAL ID:201203032942213255

シリコン精製方法および精製シリコン

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 特許業務法人深見特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2010264598
Publication number (International publication number):2012111672
Application date: Nov. 29, 2010
Publication date: Jun. 14, 2012
Summary:
【課題】シリコンを高純度に精製することが可能なシリコンの精製方法を提供する。【解決手段】本発明は、シリコン屑から精製シリコンを得るシリコン精製方法であって、シリコン屑を溶融してシリコン溶湯を形成する工程と、シリコン溶湯から得られる溶融シリコンを凝固させてシリコン塊を形成する工程と、を含み、シリコン溶湯を形成する工程は、シリコン屑を第1の圧力下で溶融してシリコン溶湯を形成する工程と、シリコン溶湯を第1の圧力よりも低い第2の圧力下で脱気する工程と、を含む。【選択図】図1
Claim (excerpt):
シリコン屑から精製シリコンを得るシリコン精製方法であって、 前記シリコン屑を溶融してシリコン溶湯を形成する工程と、 前記シリコン溶湯から得られる溶融シリコンを凝固させてシリコン塊を形成する工程と、を含み、 前記シリコン溶湯を形成する工程は、前記シリコン屑を第1の圧力下で溶融してシリコン溶湯を形成する工程と、前記シリコン溶湯を前記第1の圧力よりも低い第2の圧力下で脱気する工程と、を含むシリコン精製方法。
IPC (1):
C01B 33/037
FI (1):
C01B33/037
F-Term (15):
4G072AA01 ,  4G072BB01 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072GG05 ,  4G072HH01 ,  4G072HH40 ,  4G072MM08 ,  4G072MM24 ,  4G072MM25 ,  4G072MM38 ,  4G072MM40 ,  4G072NN02 ,  4G072NN30 ,  4G072TT19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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