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J-GLOBAL ID：201203044546247188

銅膜形成用組成物及び該組成物を用いた銅膜の製造方法

Inventor： ▲高▼木 大介 ,  芳仲 篤也 ,  豊田 昇平
Applicant, Patent owner： 株式会社ADEKA
Agent (2)： 近藤 利英子 ,  阿部 寛志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010264007
Publication number (International publication number)：2012112022
Application date： Nov. 26, 2010
Publication date： Jun. 14, 2012
Summary：

【課題】塗布性が良好で、保存安定性に優れ、低温で銅膜に転化でき、導電性に優れた銅膜を安価に製造できる溶液タイプの銅膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】必須成分として、ギ酸銅又はその水和物を1モル部、下記一般式(1)または下記一般式(1’)のいずれかで表されるジオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のジオール化合物を0.25〜2.0モル部、下記一般式(2)で表されるピペリジン化合物を0.25〜2.0モル部並びにこれらを溶解せしめる有機溶剤を含有してなる銅膜形成用組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

必須成分として、ギ酸銅又はその水和物を1モル部、下記一般式(1)または下記一般式(1’)のいずれかで表されるジオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のジオール化合物を0.25〜2.0モル部、下記一般式(2)で表されるピペリジン化合物を0.25〜2.0モル部並びにこれらを溶解せしめる有機溶剤を含有してなることを特徴とする銅膜形成用組成物。

IPC (1)：

C23C 18/08

FI (1)：

C23C18/08

F-Term (9)：

4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA13 ,  4K022BA08 ,  4K022CA13 ,  4K022DA06 ,  4K022DB04