Pat
J-GLOBAL ID:201203047228178192

遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法、並びに、遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 畠山 文夫 ,  小林 かおる
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011094237
Publication number (International publication number):2012072046
Application date: Apr. 20, 2011
Publication date: Apr. 12, 2012
Summary:
【課題】新規な遷移金属シリサイド-Si複合材料及びその製造方法、並びに、このような遷移金属シリサイド-Si複合粉末を製造することが可能な遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法を提供すること。【解決手段】1種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法。Si/Ca比(w)が2.0≦w≦20.0であり、少なくともCaシリサイド相を含む遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法。【選択図】図11
Claim (excerpt):
一種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、 Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、 比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末。
IPC (3):
C01B 33/06 ,  H01M 4/38 ,  H01M 4/36
FI (3):
C01B33/06 ,  H01M4/38 Z ,  H01M4/36 A
F-Term (32):
4G072AA01 ,  4G072AA20 ,  4G072AA50 ,  4G072BB05 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH02 ,  4G072JJ28 ,  4G072MM02 ,  4G072MM03 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072MM38 ,  4G072UU30 ,  5H050AA02 ,  5H050AA08 ,  5H050AA12 ,  5H050BA17 ,  5H050CB11 ,  5H050FA17 ,  5H050GA01 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050HA02 ,  5H050HA07 ,  5H050HA14 ,  5H050HA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

Return to Previous Page