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J-GLOBAL ID:201203048337883455

放射性物質類除染システム、及び放射性物質類の除染方法、及び除染用磁性複合粒子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 家入 健
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011227470
Publication number (International publication number):2012237735
Application date: Oct. 14, 2011
Publication date: Dec. 06, 2012
Summary:
【課題】放射性物質類を高効率で除染可能であって、環境耐性が高く大量処理にも好適な放射性物質類除染システム、放射性物質類の除染方法を提供する。【解決手段】本発明に係る放射性物質類除染システムは、放射性物質類を液体中で捕捉する除染用磁性複合粒子1と、液体中において、除染用磁性複合粒子1を集積する磁力集積手段30とを備える。除染用磁性複合粒子1は、コア部に磁性ナノ粒子10、表層に液体中の放射性物質類を捕捉する捕捉性化合物18、及び、磁性ナノ粒子10を直接被覆し、磁性ナノ粒子10と捕捉性化合物18の間に実質的に形成されている被覆層15の多層構造からなる。【選択図】図3C
Claim (excerpt):
放射性物質類除染システムであって、 放射性物質類を液体中で捕捉する除染用磁性複合粒子と、 前記液体中の前記除染用磁性複合粒子を集積する磁力集積手段と、を備え、 前記除染用磁性複合粒子は、 コア部に磁性ナノ粒子、 表層に前記液体中の前記放射性物質類を捕捉する捕捉性化合物、 及び、前記磁性ナノ粒子を直接被覆し、前記磁性ナノ粒子と前記捕捉性化合物の間に実質的に形成されている被覆層の多層構造からなる放射性物質類除染システム。
IPC (2):
G21F 9/06 ,  B82Y 30/00
FI (2):
G21F9/06 531 ,  B82Y30/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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