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J-GLOBAL ID：201203050947224024
流体噴射装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011054002
Publication number (International publication number)：2012187291
Application date： Mar. 11, 2011
Publication date： Oct. 04, 2012
Summary：
【課題】流体の噴射強度の向上を図る。【解決手段】流体を収容する流体室と、流体室に収容された流体を噴射するノズルと、所定方向において流体室と接続し、流体室に流体を供給する流体供給路と、流体室内に気泡を発生させる気泡発生部材と、流体室と流体供給路とを隔て、かつ、気泡発生部材を支持し、かつ、流体室と流体供給路とを連通する孔を少なくとも一つ有する隔壁部と、を備え、所定方向と直交する断面における孔の総断面積を、所定方向における孔の長さで除算した値が、断面における前記ノズルの断面積を、所定方向におけるノズルの長さで除算した値よりも小さくなるようにした。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
流体を収容する流体室と、
前記流体室に収容された流体を噴射するノズルと、
所定方向において前記流体室と接続し、前記流体室に流体を供給する流体供給路と、
前記流体室内に気泡を発生させる気泡発生部材と、
前記流体室と前記流体供給路とを隔て、かつ、前記気泡発生部材を支持し、かつ、前記流体室と前記流体供給路とを連通する孔を少なくとも一つ有する隔壁部と、
を備え、
前記所定方向と直交する断面における前記孔の総断面積を、前記所定方向における前記孔の長さで除算した値が、前記断面における前記ノズルの断面積を、前記所定方向における前記ノズルの長さで除算した値よりも小さい、
ことを特徴とする流体噴射装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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レーザー誘起液体噴流発生デバイス
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2006-031214
Applicant：テルモ株式会社
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脈動発生装置および流体噴射装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2009-216719
Applicant：セイコーエプソン株式会社, 国立大学法人東北大学
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カテーテル
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2003-392132
Applicant：テルモ株式会社
Cited by examiner (3)
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レーザー誘起液体噴流発生デバイス
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2006-031214
Applicant：テルモ株式会社
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脈動発生装置および流体噴射装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2009-216719
Applicant：セイコーエプソン株式会社, 国立大学法人東北大学
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カテーテル
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2003-392132
Applicant：テルモ株式会社
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