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J-GLOBAL ID:201203057046005549
ヒ素収着材及びヒ素汚染物質の浄化方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大谷 嘉一
Gazette classification:再公表公報
Application number (International application number):JP2010050880
Publication number (International publication number):WO2010087297
Application date: Jan. 25, 2010
Publication date: Aug. 05, 2010
Summary:
【課題】ヒ酸の収着能が高く、収着物質の安定性に優れたヒ酸収着材及びそれを用いた浄化方法の提供を目的とする。【解決手段】Mg2+イオンとCa2+イオンとがMg/Ca=0.3以上の割合で含有する水溶液に、可溶性炭酸塩又は炭酸塩の水溶液を混合することで沈殿生成したモノハイドロカルサイトであって、モノハイドロカルサイト中のモル比でMg/(Ca+Mg)の値が0.1以下であることを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
Mg2+イオンとCa2+イオンとがMg/Ca=0.3以上の割合で含有する水溶液に、可溶性炭酸塩又は炭酸塩の水溶液を混合することで沈殿生成したモノハイドロカルサイトであって、
モノハイドロカルサイト中のモル比でMg/(Ca+Mg)の値が0.1以下であることを特徴とするヒ素収着材。
IPC (4):
B01J 20/04
, C02F 1/28
, B01J 20/30
, C01F 11/18
FI (5):
B01J20/04 A
, C02F1/28 E
, C02F1/28 B
, B01J20/30
, C01F11/18 B
F-Term (20):
4D624AA05
, 4D624AB17
, 4D624BA11
, 4D624BB01
, 4G066AA43B
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066BA36
, 4G066CA46
, 4G066FA05
, 4G066FA37
, 4G076AA16
, 4G076AA18
, 4G076AB04
, 4G076AB09
, 4G076BC07
, 4G076CA02
, 4G076CA05
, 4G076CA26
, 4G076DA25
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