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J-GLOBAL ID：201203058397907766

多孔質ガラスの製造方法及び撮像装置の製造方法

Inventor： ▲高▼嶋 健二 ,  張 祖依 ,  小谷 佳範 ,  杉山 享 ,  纐纈 直行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011253073
Publication number (International publication number)：2012131695
Application date： Nov. 18, 2011
Publication date： Jul. 12, 2012
Summary：

【課題】 面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】 ホウケイ酸塩ガラスを主成分とする母材ガラスに、銀イオンとカリウムイオンとリチウムイオンのうちから選ばれた1種類以上のイオン種を接触させて加熱して、表面から深さ方向に遠くなるほど前記イオン種の濃度が減少しているイオン濃度分布を有するガラス体を形成する工程と、前記ガラス体を加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、前記相分離ガラスをエッチングして、表面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスを形成する工程と、を有する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ホウケイ酸塩ガラスを主成分とする母材ガラスに、銀イオンとカリウムイオンとリチウムイオンのうちから選ばれた1種類以上のイオン種を接触させて加熱して、表面から深さ方向に遠くなるほど前記イオン種の濃度が減少しているイオン濃度分布を有するガラス体を形成する工程と、 前記ガラス体を加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、 前記相分離ガラスをエッチングして、表面から深さ方向に遠くなるほど空孔率が小さくなっている多孔質ガラスを形成する工程と、 を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。

IPC (3)：

C03C 15/00 ,  C03B 32/00 ,  G02B 1/11

FI (3)：

C03C15/00 G ,  C03B32/00 ,  G02B1/10 A

F-Term (19)：

2K009AA01 ,  2K009BB02 ,  2K009DD12 ,  4G015EA01 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB05 ,  4G059AB07 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC09 ,  4G059BB04 ,  4G059HB02 ,  4G059HB14 ,  4G059HB15 ,  4G059HB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭56-092138
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Ion-exchange-induced Phase Separation and Preparation of Porous Glass