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J-GLOBAL ID：201203071068393766

欠陥検査方法およびその装置

Inventor：
浦野 雄太

About 浦野 雄太

, 
浜松 玲

About 浜松 玲

, 
前田 俊二

About 前田 俊二


Applicant, Patent owner：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

About 株式会社日立ハイテクノロジーズ


Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012004628
Publication number (International publication number)：2012068270
Application date： Jan. 13, 2012
Publication date： Apr. 05, 2012
Summary：
【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。【解決手段】 基板試料を載置してX-Y-Z-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
レーザを発射する光源手段と、 該光源手段から発射されたレーザの偏光の状態を制御して表面にパターンが形成された試料の該表面に対して傾斜した方向から照射する照明光学系手段と、 該照明光学系手段によりレーザが照射された前記試料からの反射散乱光を空間フィルタを介して該反射散乱光の偏光成分ごとに分離して検出する検出手段と、 該検出手段で偏光成分ごとに分離して検出した前記偏光成分ごとの検出信号を処理して前記試料上の欠陥を検出する信号処理手段と、 該信号処理手段で処理して得た欠陥の情報を出力する出力手段とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (1)：
G01N 21/956
FI (1)：
G01N21/956 A
F-Term (18)：
2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BB07 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051EC03 ,  2G051ED21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 異物検査装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-084111   Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社
  • 特開昭62-011136
  • 欠陥検出方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-400933   Applicant：徳島県
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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