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J-GLOBAL ID：201203074171744240

下地剤

Inventor： 先崎 尊博 ,  太宰 尚宏 ,  宮城 賢 ,  藤川 茂紀 ,  早川 晴美 ,  小泉 真里
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  独立行政法人理化学研究所
Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010205875
Publication number (International publication number)：2012062365
Application date： Sep. 14, 2010
Publication date： Mar. 29, 2012
Summary：

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤を提供。【解決手段】基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち20モル%〜80モル%が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、 樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち20モル%〜80モル%が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤。

IPC (5)：

C08L 25/00 ,  C08L 33/06 ,  C08K 5/28 ,  C08L 61/10 ,  C08F 12/02

FI (5)：

C08L25/00 ,  C08L33/06 ,  C08K5/28 ,  C08L61/10 ,  C08F12/02

F-Term (24)：

4J002BC011 ,  4J002BC031 ,  4J002BC121 ,  4J002BG012 ,  4J002BG062 ,  4J002BG072 ,  4J002CC043 ,  4J002EQ036 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AA20Q ,  4J100AB00P ,  4J100AB02P ,  4J100AB07P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100FA19 ,  4J100JA00