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J-GLOBAL ID：201203080677426882

底質の処理方法及び抽出装置

Inventor： 神田 英輝 ,  牧野 尚夫 ,  大下 和徹 ,  高岡 昌輝 ,  水野 忠雄
Applicant, Patent owner： 財団法人電力中央研究所
Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010178741
Publication number (International publication number)：2012035213
Application date： Aug. 09, 2010
Publication date： Feb. 23, 2012
Summary：

【課題】抽出溶媒として液体状態のジメチルエーテルを用いて、底質から残留性有機汚染物質を高い効率で抽出でき、かつジメチルエーテルの回収効率も保ち得る技術を提供すること。【解決手段】(A)底質を、底質に対する重量比率が3mL/g以上である液体状態のジメチルエーテルに浸漬して、前記残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルの第1の層と、前記底質中の水分及び前記残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルと、前記底質中の残留性有機汚染物質及び水分以外の成分からなる沈殿物とからなる第2の層とを形成させる工程、及び(B)第2の層のうち、底質中の水分及び残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルの少なくとも一部と第1の層の少なくとも一部とを回収する工程を含む、残留性有機汚染物質を含有する底質の処理方法及び抽出装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

以下の工程(A)及び(B)を含む、残留性有機汚染物質を含有する底質の処理方法。 (A)底質を、前記底質に対する重量比率が3mL/g以上である、液体状態のジメチルエーテルに浸漬して、前記残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルの第1の層と、前記底質中の水分及び前記残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルと、前記底質中の残留性有機汚染物質及び水分以外の成分からなる沈殿物とからなる第2の層とを形成させる工程 (B)前記第2の層のうち、前記底質中の水分及び残留性有機汚染物質を溶解している液体状態のジメチルエーテルの、少なくとも一部と、前記第1の層の少なくとも一部とを、回収する工程

IPC (2)：

C02F 11/14 ,  B01D 11/02

FI (2)：

C02F11/14 Z ,  B01D11/02 Z

F-Term (21)：

4D056AB17 ,  4D056AC07 ,  4D056BA14 ,  4D056CA01 ,  4D056CA20 ,  4D056CA26 ,  4D056CA33 ,  4D056CA39 ,  4D056CA40 ,  4D056DA10 ,  4D059AA09 ,  4D059AA18 ,  4D059BH01 ,  4D059BH06 ,  4D059BH08 ,  4D059BK09 ,  4D059DB40 ,  4D059EB01 ,  4D059EB06 ,  4D059EB07 ,  4D059EB08