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J-GLOBAL ID：201203083095521669

接合膜の評価方法および接合膜の評価装置

Inventor： 澤井 丈徳
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010131736
Publication number (International publication number)：2011257259
Application date： Jun. 09, 2010
Publication date： Dec. 22, 2011
Summary：

【課題】接合膜の活性化状態を容易かつ正確に評価可能な接合膜の評価方法および接合膜の評価装置を提供すること。【解決手段】本発明の接合膜の評価方法は、シロキサン結合を含む原子構造と、シロキサン結合に結合し有機基からなる脱離基とを含む接合膜3を基材2上に成膜してなる接合膜付き基材1について、接合膜3にエネルギーが付与され、活性化状態となり、接着性を発現した状態を評価する方法であって、活性化状態にある接合膜3の表面に水滴10を付着させる水滴付着工程と、水滴10の接触角θを測定する接触角測定工程とを有する。測定した接触角θは、接合膜3の活性化状態との間に相関性を有しているため、活性化状態の程度、すなわち接着性を評価するための指標となり得る。よって接触角θを測定することにより、実際に接合する前であっても、接合膜3の活性化状態を評価することが可能になる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

シロキサン結合を含む原子構造と、前記シロキサン結合に結合し有機基からなる脱離基とを含み、エネルギーを付与することにより活性化状態となり、接着性を発現する接合膜について、前記活性化状態を定量的に評価する方法であって、 前記活性化状態にある前記接合膜の表面に水滴を付着させ、前記水滴の接触角を測定する工程を有することを特徴とする接合膜の評価方法。

IPC (2)：

G01N 13/00 ,  C09J 183/04

FI (2)：

G01N13/00 ,  C09J183/04

F-Term (6)：

4J040EK031 ,  4J040EK041 ,  4J040JB07 ,  4J040MA02 ,  4J040MA04 ,  4J040MA05